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포토레지스트는 무엇인가 | 빛으로 회로를 그리는 재료

by MoniBig 2025. 11. 3.

포토레지스트(Photoresist)는 반도체 리소그래피 공정에서 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성할 때 사용하는 감광성 재료입니다. '포토'는 빛을 의미하고, '레지스트'는 막을 형성하여 저항하는 물질이라는 뜻입니다. 즉, 포토레지스트는 빛에 반응하여 화학적 성질이 바뀌고, 이를 통해 원하는 형태의 회로를 구현할 수 있도록 도와주는 핵심 소재입니다.

오늘날 반도체 소자는 나노미터 단위의 미세한 회로 패턴으로 구성되어 있으며, 이를 정확하게 구현하기 위해서는 고정밀 리소그래피 공정이 필수적입니다. 이 과정에서 포토레지스트는 마치 인쇄에서 잉크처럼 중요한 역할을 하며, 최종 제품의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미칩니다.

리소그래피 공정에서의 작동 원리

리소그래피 공정은 웨이퍼 위에 얇은 포토레지스트를 균일하게 도포한 뒤, 빛을 이용해 원하는 회로 패턴을 전사하는 과정입니다. 이때 사용되는 빛은 자외선(UV) 또는 극자외선(EUV)이며, 마스크를 통해 특정 부위에만 노광되도록 설계됩니다.

노광된 포토레지스트는 화학적으로 성질이 바뀌고, 이후 현상 공정을 통해 선택적으로 제거됩니다. 남은 포토레지스트 패턴은 이후 식각이나 증착 공정에서 보호막 역할을 하며, 웨이퍼에 회로를 형성하는 데 기여합니다.

포지티브와 네거티브 포토레지스트의 차이

포토레지스트는 빛을 받은 후의 반응 방식에 따라 포지티브와 네거티브로 나뉩니다. 포지티브 포토레지스트는 빛을 받은 영역이 약화되어 제거되며, 빛을 받지 않은 부분은 남게 됩니다. 반면, 네거티브 포토레지스트는 노광된 영역이 경화되어 남고, 나머지가 제거됩니다.

현대의 미세 공정에서는 해상도 확보가 용이한 포지티브 포토레지스트가 더 널리 사용되고 있습니다. 특히 7nm 이하의 고집적 회로를 구현하기 위해서는 더욱 정밀한 제어가 가능한 포지티브 레지스트가 필수적입니다.

포토레지스트 도포부터 제거까지

  1. 웨이퍼 위에 스핀 코팅 방식으로 포토레지스트를 균일하게 도포합니다.
  2. 소프트 베이크(Soft Bake)를 통해 용매를 증발시키고 막을 안정화합니다.
  3. 마스크를 정렬하고, 자외선 또는 EUV 빛을 조사하여 노광합니다.
  4. 현상액을 이용해 빛에 반응한 부분을 선택적으로 제거합니다.
  5. 하드 베이크(Hard Bake)를 통해 남은 패턴의 내열성과 내화학성을 강화합니다.

이 과정을 거쳐 생성된 패턴은 이후 식각 공정에서 보호막 역할을 하며, 원하는 회로 구조만 웨이퍼에 남게 됩니다. 공정이 끝난 후에는 포토레지스트도 제거됩니다.

포토레지스트가 중요한 이유

포토레지스트의 품질은 회로 선폭 제어, 정렬 정확도, 공정 반복성 등에 큰 영향을 미칩니다. 레지스트가 균일하지 않으면 패턴 왜곡이나 미세 결함이 발생할 수 있으며, 이는 곧 불량률 증가로 이어집니다. 따라서 감광 특성, 해상도, 내열성, 식각 저항성 등 다양한 성능이 균형을 이루어야 합니다.

또한 공정 조건(노광 에너지, 현상 시간, 베이크 온도 등)에 따라 성능이 크게 달라지므로, 반도체 제조 현장에서는 공정별 최적화가 정밀하게 이루어져야 합니다.

EUV 공정과 차세대 포토레지스트

극자외선(EUV) 리소그래피는 13.5nm 파장의 빛을 사용해 기존보다 훨씬 정밀한 패턴 구현이 가능합니다. 하지만 기존 포토레지스트는 EUV 파장에서 충분한 흡수율과 해상도를 확보하기 어려워 새로운 소재의 필요성이 대두되고 있습니다.

이를 위해 금속 산화물 기반의 무기 레지스트, 하이브리드 고분자 레지스트 등 다양한 차세대 포토레지스트가 개발되고 있습니다. 이들은 감도와 해상도, 선폭 제어 능력 등에서 기존 제품보다 개선된 성능을 보이며, 향후 고집적 반도체 공정에 필수적인 기술로 주목받고 있습니다.

결론 | 회로의 선을 그리기 위해선, 빛에 반응하는 재료가 필요합니다

포토레지스트는 눈에 보이지 않는 세계에서 ‘회로의 테두리’를 그려주는 재료입니다. 빛에 반응해서 단단해지거나 녹아내리는 이 얇은 막이 있어야, 설계된 회로가 웨이퍼 위에 정확히 새겨질 수 있습니다.

리소 공정이 아무리 정밀해도, 포토레지스트가 잘 반응하지 않으면 결국 패턴은 무너집니다. 그래서 이 재료는 단순한 감광성 폴리머가 아니라, 반도체 공정의 정밀도를 책임지는 키 역할을 합니다.

회로를 그리는 빛이 있다면, 그걸 받아내는 재료도 그만큼 중요합니다.